光学表面清洁保护剂 BF黑色配方
透明基底在光学计量、干涉测量和显微镜等领域中引入了挑战。许多应用需要使用可移除的抗反射（AR）涂层。Photonic Cleaning Technologies开发了一种液体来隐藏背面反射，而且能提供在分子水平上清洁基底的能力。该液体已成功地在多家公司中应用，这种液体的粘度略高于其他非喷涂液体，干燥后的薄膜不会像汽车漆那样光滑。但是液体在基材表面会很光滑，以隐藏反射。如果气泡导致无法形成连续的黑色薄膜，可以在基材上再涂一层。
特别适用于光学计量、干涉测量和显微镜等需要高精度和清晰度的领域。
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主要优势特点
1. 隐藏背面反射：有效隐藏光学器件的背面反射，减少信号噪声比和伪影。
2. 可移除抗反射涂层：提供可移除的抗反射功能，适用于需要频繁清洁的应用。
3. 分子水平清洁：能够在分子水平上清洁基底，确保表面无污染。
4. 已通过实际应用验证：已在多家公司成功应用，效果显著。
5. 高粘度：液体粘度略高于其他非喷涂液体，有利于形成均匀涂层。
6. 可修补：如果初次涂层不连续，可通过再涂一层来解决。
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